等离子清洗机的外表处理工艺归于干式清洗方法,在半导体器材出产、微机电体系、光电元器材等封装范畴中的优势显着,有利于进步晶粒与焊盘导电胶的粘附功能、焊膏滋润功能、金属键合强度、塑封料和金属外壳包覆的可靠性等。在实践的处理中,依照等离子清洗机的运转方法,咱们能够将其分为独立式等离子清洗机和在线式等离子清洗机。
独立式等离子清洗机也叫做离线式、单体式、批量式等离子清洗机,其间设备构成首要包含等离子产生体系、排气体系、温控体系、气路控制体系、冷却体系、电气控制体系、真空产生体系、钣金件等部件。
而在线式等离子清洗机相同有其他称谓,如接连式、不间断式等离子清洗机,在线式等离子清洗机是在独立式等离子清洗机的基础上,即满意产品处理均匀性和一致性的一起,为进步自动化的程度与削减人工参加而规划的。因此其间的首要组成部分除了上述独立式等离子清洗机的结构组成外再增加了:上下料推送结构、上下料放置渠道、上下料提高体系、上下料传输体系、上下料拨料结构、对应的设备主体结构。
而二者在半导体封装范畴都能够很好地处理资料,使其到达咱们所要求的规范,如铜引线结构,因为铜的氧化物和其他的有机污染物会形成密封模型与铜引线结构分层,然后引起封装后器材的密封性变差以及缓慢渗气现象,还会影响芯片的粘接和引线键合质量,因此需运用等离子处理体系来去除氧化物和有机物,一起到达外表活化和粗化的作用,保证打线和封装的可靠性。
所以虽然在线式等离子清洗机是在独立式的基础上,所迭代更新的具有愈加细分处理要求的设备,但二者在处理资料时都具有非常显着的处理作用,将其区别开来的更多的是事先在处理前对资料处理规范的不同,这一不同导致了咱们在实践运用中需求依据详细需求来决议挑选不同的设备。